微弧氧化技術(shù)的研究已經(jīng)歷了幾十年的發(fā)展歷程，特別是從交流微弧氧化技術(shù)出現(xiàn)以來(lái)取得了飛躍式的發(fā)展，并向?qū)嵱没~進(jìn)了一大步。對(duì)鈦合金進(jìn)行微弧氧化表面陶瓷化處理才剛剛起步不久，因此存在許多技術(shù)問(wèn)題。

( 1 ) 研制高效節(jié)能電源。微弧氧化工藝在加工過(guò)程中單位面積耗能較大，這就限制了加工工件的面積。

( 2 ) 電參數(shù)對(duì)氧化膜組織結(jié)構(gòu)及生長(zhǎng)影響規(guī)律研究不足。微弧氧化膜的組織結(jié)構(gòu)除受電解液體系的影響外，電參數(shù)也對(duì)其產(chǎn)生重要的影響。各脈沖電參數(shù)(電壓或電流密度、頻率及正負(fù)電流密度比) 對(duì)氧化膜組織結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律還沒(méi)有深入系統(tǒng)的研究；要獲得質(zhì)量較好的氧化膜，微弧氧化成膜初期、中期、后期對(duì)電參數(shù)要求不同，通過(guò)電參數(shù)的配合調(diào)節(jié)可以對(duì)組織結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化。比如對(duì)放電火花的控制，膜層可以獲得良好的表面粗糙度。

( 3 ) 電解液的組分在氧化膜形成過(guò)程中的作用機(jī)理研究不足。目前的研究多集中對(duì)氧化膜中氧化物及化學(xué)元素含量的分析及膜特性的研究，對(duì)膜層中氧化物的形成機(jī)理及化學(xué)元素在膜層形成過(guò)程中的作用研究的不夠。性能優(yōu)越的電解液體系配方基本是通過(guò)多次試驗(yàn)得出的，還不能根據(jù)膜層的使用性能自由設(shè)計(jì)電解液配方。

( 4 ) 氧化膜的膜基結(jié)合問(wèn)題。從實(shí)驗(yàn)結(jié)果看，同鋁、鎂合金微弧氧化膜相比，鈦合金過(guò)渡層尺寸略大基體與過(guò)渡層之間有明顯分層現(xiàn)象，氧化膜與基體結(jié)合力較差。

( 5 ) 缺乏對(duì)大比例生成致密層的機(jī)理及工藝的研究。在氧化膜三層結(jié)構(gòu)中只有致密層才是主要的工作層，減少疏松層的厚度，提高致密層在膜層中所占的比例，進(jìn)而達(dá)到無(wú)疏松層的氧化膜，將是微弧氧化工藝的一個(gè)重要的研究方向。

總之，鈦合金微弧氧化技術(shù)盡管目前研究得不夠充分，但已經(jīng)顯現(xiàn)出該技術(shù)的巨大優(yōu)點(diǎn)及潛力，隨著該技術(shù)研究不斷深入，必將很快應(yīng)用于生產(chǎn)各個(gè)領(lǐng)域。

參考文獻(xiàn)：

《焊接》2008年第5期——《專題綜述》——《鈦合金微弧氧化技術(shù)的研究》

《中國(guó)陶瓷工業(yè)》2007年第1期——《 鈦合金微弧氧化技術(shù)的研究現(xiàn)狀及展望 》

《材料導(dǎo)報(bào)》2006年11月第20卷專輯——《電解液和電參數(shù)對(duì)鈦合金微弧氧化的影響》

《潤(rùn)滑與密封》2007年11月第32卷第11期——《鈦合金微弧氧化層的摩擦學(xué)性能研究》

《電鍍與涂裝》第24卷第6期——《微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)、 應(yīng)用前景及其研究方向》

《中國(guó)礦業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)》2008年7月第37卷第4期——《鈦合金微弧氧化陶瓷層的結(jié)構(gòu)研究》